直播1980:网友教我手搓火箭 第331章 流片成功!

小说:直播1980:网友教我手搓火箭 作者:灵台三心 更新时间:2026-04-04 12:36:25 源网站:2k小说网
  ......

  第七天。

  凌晨两点零三分。

  帝都的夜很安静。

  中关村的路灯坏了两盏,没人修。

  地下室里,VAX-11的风扇嗡嗡地转。

  司徒渊敲下最后一个回车键。

  仿真程序运行了五十一分钟。

  屏幕上的代码,像瀑布一样狂泄。

  三个人谁都没坐。

  张秉谦站在屏幕左侧,老花镜推到了额头上,反而不戴了。

  林希站在右侧,双手插在裤兜里。

  司徒渊站在正中间,手搭在键盘边框上,指甲盖发白。

  瀑布停止。

  最后三行。

  全是悦目的纯绿色。

  `ISA BUS Timing: PASSED`

  `All Timing COnStraintS: MET`

  `TOtal ViOlatiOnS: 0`

  张秉谦摘下额头上的老花镜。

  他没喊,没笑。

  他把眼镜折好,小心翼翼地放进胸口的口袋里。

  然后他蹲了下去。

  蹲在冰凉的瓷砖地面上,双手捂住了脸。

  肩膀在抖。

  没有声音。

  林希转过头,不去看他。

  司徒渊也转过头。

  去看那台冰箱大小的机器。

  米白色的外壳上,DEC的标志在地下室的日光灯管下反着光。

  他盯着那个标志看了几秒。

  然后伸出手,轻轻地拍了拍机箱外壳。

  “谢了。”他用英语说。

  声音很轻。

  直播间安静了整整八秒。

  然后弹幕像潮水一样涌上来。

  【零违规!!!全部通过!!!】

  【七天!三个人干了别人一个团队半年的活!】

  【张工那双膝盖上的白印到底磨掉了几层皮啊】

  【不说了,眼睛进沙子了】

  ......

  从中关村的地下室,到津门二厂的轰鸣。

  短短几天,犹如跨越了一个时代。

  七月一号。

  津门无线电二厂。

  硅基产线全速开动。

  这是GK-3光刻机浴火重生后的第一次实弹操演。

  陈默亲自操机,手指搭在对焦旋钮上,眼睛贴着目镜。

  光栅尺的数字跳动,伺服电机精准补偿每一个微米的误差。

  曝光。

  显影。

  硅片上的线条清晰锐利,边缘笔直。

  刻蚀环节,BOE槽液控温稳定在三十五度。

  第一批硅片过检,沟槽完美。

  陈默回头冲林希竖了个大拇指。

  直到离子注入。

  长安771所支援的国产离子注入机是十年前的老型号。

  苏佩兰和王铁山两个老师傅在机器旁边守了一天一夜,反复调整参数。

  打出来的硅片,送到显微镜下一看。

  掺杂深度分布不均匀。

  有的区域深了,有的区域浅了。

  像一块没发好的面,有些地方鼓着,有些地方瘪着。

  直接后果:芯片漏电。

  测试探针扎下去,电流一路跑偏,根本锁不住。

  苏佩兰试了七组参数,全部失败。

  “机器太老了。”

  她摘下防尘面罩,额头上全是汗。

  “束流不稳,真空也拉不到位。”

  车间里的气氛沉下去了。

  光刻过了,刻蚀过了,偏偏倒在了最基础的掺杂上。

  林希站在注入机旁边,手扶着冰凉的金属外壳。

  他闭上眼睛。

  脑海中,直播间的弹幕已经开始翻涌。

  【离子注入!关键参数来了!!!】

  【我查了771所这批机器的资料——核心问题是束流电流太低导致注入时间过长,硅片在真空腔里受热不均匀!】

  【解法很简单但很反直觉——把束流电流提上去!10mA!加速电压拉到50keV!让注入时间缩短,减少热积累!】

  【最关键的一步:真空度!必须拉到10的负5次方帕斯卡!不然残余气体会和离子束发生散射,杂质分布肯定不均匀!】

  【对!这台老机器的分子泵其实能达到这个真空度,但出厂预设太保守了,得手动调旁通阀把抽速拉满!】

  林希睁开眼。

  “苏师傅。”

  苏佩兰回头。

  “束流电流调到10毫安。”

  “加速电压拉到50千电子伏特。”

  苏佩兰愣了一下。

  “电流10毫安?”

  “这台机器设计上限才8……”

  “旁通阀全开,把真空度拉到10的负5次方帕。”

  林希的声音很稳,

  “抽速够了以后,束流不会散。”

  苏佩兰看了看旁边的王铁山。

  王铁山沉默了几秒,走到机器后面。

  蹲下去看了看分子泵的参数铭牌。

  “能拉到。”

  他直起腰,

  “负5次方没问题,就是没人敢这么用。”

  “那就用。”林希说。

  王铁山没再犹豫。

  他抱着扳手绕到机器背面,拧开旁通阀。

  苏佩兰深吸一口气,坐回操作台。

  束流电流:10mA。

  加速电压:50keV。

  真空度读数开始往下掉。

  10的负3次方。

  负4次方。

  分子泵的声音变得尖锐。

  负5次方。

  稳住了。

  “注入。”林希说。

  苏佩兰按下启动键。

  机器轰鸣声骤然变调,像一头沉睡的野兽被唤醒。

  离子束击中硅片表面。

  六十秒。

  一百二十秒。

  注入结束。

  苏佩兰取出硅片,双手端着,走到显微镜前。

  车间里所有人的呼吸都停了。

  她把硅片放上载物台,调焦。

  看了三秒。

  又调了一下倍率。

  再看了五秒。

  她抬起头。

  嘴唇哆嗦了两下。

  “均匀的。”

  她的声音带着哭腔。

  “深度完全一致。”

  王铁山冲过去,把她从椅子上挤开,自己趴到目镜上看。

  看完,他直起腰,一屁股坐在了地上。

  “成了。”

  两个字。

  直播间弹幕彻底爆炸。

  【流片成功!!!华国硅基芯片流片成功了!!!】

  【1983年!自主光刻机 自主离子注入!流片流程打通!】

  【这帮老师傅是真的牛,参数给到位了,手上的活一点不含糊】

  【哭了哭了,跪在地上画版图,趴在机器前调参数,这就是华国芯片的第一步】

  林希站在车间中央。

  周围是沸腾的欢呼声。

  林希转头看向窗外。

  七月底的津门,太阳正落。

  晚霞把整个二厂的厂房染成暗红色。

  司徒渊不知道什么时候走到他旁边。

  两人并排站着,看着窗外。

  “林总。”司徒渊开口。

  “嗯。”

  “流片成功了,但这只是工程样片。”

  司徒渊推了推眼镜。

  “量产之前,还差最后一步,”

  “封装,测试。”